TopWave 405: ガスレーザーに代わる手軽なシステム

トプティカの新しいTopWave 405は、ガスレーザーに代わるコスト効率に優れたシステム。使いやすく、リソグラフィやホログラフィでのハンズフリー/リモート操作にも対応します。

トプティカの新しいTopWave 405は、リソグラフィやホログラフィに一般に使用される大型で消費電力の大きいクリプトンイオン（406.7nm、413.1nm）ガスレーザーに代わる優れたレーザーシステムです。TopWave 405は、405nmで1Wの出力と卓越したビーム品質を実現します。ビーム径とM²（typ. 1.15）は既存のガスレーザーのパラメータに合わせて設計されているため、光学系を大幅に変更することなく簡単に統合が可能です。またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため、干渉リソグラフィやホログラフィにおいて安定したパターンを生成します。

優れた効率と低所有コスト

ガスレーザーが数キロワットの消費電力と取り扱いの煩雑な水冷チラーを必要とするのに対し、「オール半導体レーザー」のTopWave 405 は100W以下の低消費電力で水冷チラーも使わずに同じ光出力を実現します。これだけでも大幅な所有コストの削減となります。さらにメンテナンス周期が長く、改修コストが低いというメリットもあります。訓練を受けた担当者であれば、半導体フィールド交換可能ユニットを現場で簡単に交換できるため、少ないダウンタイムで収益性が向上します。

主な用途：

• リソグラフィ
• レーザーダイレクトイメージング
• マスクライティング
• ホログラフィ
• ナノファブリケーション

使いやすい

システムは、完全自動のプッシュボタン式オプトメカニクスを採用し、出力安定化機能も備えています。このため搭載のグラフィックユーザーインタフェースを使用して、またはお客様の制御ソフトウェアに統合してソフトハンズフリー/リモート操作が可能です。詳細および各種設定のサポートについてはお問い合わせください：www.toptica.com/efficient

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