Diode Lasers for Microlithography

ムーアの法則が王様です。これまで以上に微細な構造を目指して技術改善を重ねることはマイクロリソグラフィー技術にとって明確かつ重要な目標です。最新のマイクロリソグラフィーシステムでは小型のバイオレットレーザーと深紫外波長半導体レーザーが、かつての大型のガスレーザーやHeCdレーザーに取って代わりました。半導体レーザーが持つ優れた性能により、近年まで想像もできなかったタクト時間の改善、所有コストの低減、および卓越したリソグラフィ性能の実現が可能になります。トプティカ社ではマスクレス露光分野等における高度な要求に完全に対応する最先端の半導体レーザーシステムを御提供できることを誇りに思っています。

従来型ガスレーザーと比較した場合の利点は多岐にわたります。ガスレーザーは常にcw(連続波)モードで動作することから、パルス変調は複雑な外部変調器によって行われる必要があります。これに対し半導体レーザーでは高速での直接変調がレーザー単体で完結します。また「グレースケーリング」と呼ばれるさまざまなレベルのイメージングは​​、パルス帯域幅のマルチ変調によって容易に実現することが可能です。

青色波長ガスレーザーの一般的な寿命は数千時間です。高出力バイオレット半導体レーザーは優に2〜3倍の長寿命を有し、システムの稼働時間および対費用効果を劇的に改善します。さらにトプティカ社では最も要求の厳しい産業向けタスクでも実行できるように最適な設計がされた超小型シングルモード半導体レーザーを提供します。