TopWave 405

優れた対費用効果。ガスレーザーの置き換えに – リソグラフィー、ホログラフィーアプリケーション向けにハンズフリーオペレーションを提供します

  • 低コストでの運用可能
  • 1 Watt @ 405 nm   
  • 優れたビーム品質、  M² = 1.15(典型値)
  • コヒーレンス長 > 100 m

TopWave 405はホログラフィおよびリソグラフィの用途で従来一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr+ガスレーザー (406.7 nm 及び 413.1 nm) の置き換えに理想的なレーザーシステムです。The TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。 ビーム径と M² (typ. 1.15) は、既存のガスレーザのパラメータに合わせて設計されているため、光学系を大幅に変更することなく簡単に従来のシステムに統合することが可能です。 またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため干渉 lithography や holographyにおいて安定したパターン生成が可能になりました。

Highest Efficiency – low cost of ownership

ガスレーザーは数キロワットの消費電力とハンドリングが煩雑な水冷チラーを必要としますが、“オール半導体レーザー” TopWave 405 方式を採用した TopWave 405 は100W以下の低消費電力で水冷チラーも不要です。運用コストを大幅に低減し、オーナシップコストの改善に大きく寄与します。 さらに長寿命の半導体レーザーの採用でメンテナンス周期が長くなり、改修コストを劇的に低減できるメリットもあります。

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