半導体計測、ホログラフィ、フォトリソグラフィ分野におけるハイテク技術革新の未来は、レーザー技術の進歩に大きく依存しています。これらのアプリケーションでは、卓越した精度、安定性、信頼性のあるレーザーが求められます。トプティカ社はこれらアプリケーションの厳しい要求を満たすだけでなく、低ランニングコストを実現した複数の次世代単一周波数レーザーソリューションを提供する最先端分野における将来のイノベーションを推進するための理想的なパートナーです。
Laser requirements | Customer benefits |
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RGB/ 可視 波長帯域 (440 - 660 nm) | 白色光ホログラム |
波長可変オプション | 記録用波長からイルミネーションスペクトルまで対応 |
高コヒーレンス | 高パターンコントラスト |
高出力 | 短い露光時間 広い露光エリア |
高い出力安定性 | 高速プロセスにおいて高歩留まり |
波長精度 及び 安定性 | 優れた再現性 |
Matching lasers
System | Key wavelengths | Max. output power |
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ALS-VIS series | 488 nm / 514 nm / 532 nm | 2 W / 8 W / 10 W |
DLC TA-SHG pro with tuning option | 445 … 470 nm* 520 … 535 nm* 615 … 640 nm* | Up to 1 W |
* *各中心波長における波長可変レンジ: 10nm (典型値)
Laser requirements | Customer benefits |
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"短"波長 (紫 -深紫外) | 高分解能。 より微細なパターンの製造が可能 |
高コヒーレンス | 高コントラスト |
高出力 | プロセスの高速化、広域イメージング |
高い出力安定性 | 高速プロセスにおいて高歩留まり |
絶対波長精度 & 周波数安定性 | 優れた再現性, 安定した干渉パターン |
ご提案レーザー例
System | Key wavelengths | Max. output power |
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TopWave 405 | 405 nm | 1 W |
TopWave DUV | 229 nm / 257 nm / 266 nm | 10 mW / 15 mW / 300 mW |
DLC TA-SHG pro | 365 nm, 390 nm | Up to 1 W |
DLC TA-FHG pro | 193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm | Up to 300 mW |
Laser requirements | Customer benefits |
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"短"波長 (紫 -深紫外) | 高空間分解能, 微細フィーチャーサイズ |
プロセススピードの向上 | プロセススピードの向上 |
高い出力安定性 | 高速プロセスにおいて高歩留まり |
低ノイズ | 再現性 |
安定したビームポインティング | 分解能 |
ご提案レーザー例
System | Key wavelengths | Max. output power |
---|---|---|
TopWave 405 | 405 nm | 1 W |
TopWave DUV | 229 nm / 257 nm / 266 nm | 10 mW / 15 mW / 300 mW |
iBeam smart | 375 nm, 405 | Up to 0.45 W |
DLC TA-SHG pro | 365 nm, 390 nm | Up to 1 W |
Wavelength | (従来のソリューション) | Suggested replacement laser | Available wavelength | Max. output power |
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647.1 nm | クリプトンイオンレーザー | DLC TA-SHG pro DLC RFA-SHG pro | 635 nm .. 650 nm | 1 W 6 W |
632.8 nm | ヘリウムネオンレーザー | iBeam smart WS DFB pro | 633 nm, 638 nm 633 nm | up to 120 mW 10 mW |
514.5 nm | アルゴンイオンレーザー | ALS-VIS series | 514.5 nm | 8 W |
488.0 nm | アルゴンイオンレーザー | ALS-VIS series | 488 nm | 2 W |
457.9 nm | アルゴンイオンレーザー | DLC TA-SHG pro | 450 nm .. 470 nm | up to 1.3 W |
413.1 nm | クリプトンイオンレーザー(h-line) | TopWave 405 | 405 nm (413 nm) | 1 W (0.7 W) |
406.7 nm | クリプトンイオンレーザー(h-line) | TopWave 405 TopMode | 405 nm | 1 W 100 mW |
363.8 nm | アルゴンイオンレーザー(i-line) | DLC TA-SHG pro | 365 nm | 50 mW |
264.4 nm | アルゴンイオンレーザーSHG | TopWave DUV | 266 nm | 300 mW |
257 nm | アルゴンイオンレーザーSHG | TopWave DUV DLC TA-FHG pro | 257 nm | 15 mW Up to 200 mW |
244 nm | アルゴンイオンレーザーSHG | DLC TA-FHG pro | 244 nm | Up to 200 mW |
Laser requirements | Customer benefits |
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深紫外/可視/近赤外 波長 | 測定タスクに対する最適な波長, (例) 分解能向上のための深紫外波長 |
低ノイズ | 最高のSN比 |
波長精度 & 周波数安定性 | 再現性 |
長寿命 | 低ランニングコスト, サステナビリティ |
Matching lasers
System | Key wavelengths | Max. output power |
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iBeam smart | 375 nm .. 850 nm | Up to 450 mW |
iBeam smart WS | 633 nm, 638 nm, 785 nm, 808 nm, 828 nm, 850 nm | up to 120 mW |
DFB pro | 633 nm, 780/785 nm, 852 nm | up to 120 mW |
TopWave DUV | 229 nm / 257 nm / 266 nm | 10 mW / 15 mW / 300 mW |
DLC TA-FHG pro | 193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm | Up to 300 mW |
System | Key wavelengths | Max. output power | Linewidth (typ.) |
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ALS-VIS series | 488 nm / 514 nm / 532 nm | 2 W / 8 W / 10 W | < 0.5 MHz |
Top Mode | 405 nm | 100 mW | < 5 MHz |
TopWave 405 | 405 nm | 1 W | < 25 MHz |
TopWave DUV | 229 nm / 257 nm / 266 nm | 10 mW / 15 mW / 300 mW | < 1 MHz |
DLC TA-SHG pro with tuning option | 445 … 470 nm* 520 … 535 nm* 615 … 640 nm* | Up to 1 W | < 0.5 MHz |
DLC TA-SHG pro | 365 nm, 390 nm, 405 nm, 560 nm, 633 nm | Up to 1 W | < 0.5 MHz |
DLC TA-FHG pro | 193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm | Up to 300 mW | < 1 MHz |
DFB pro | 633 nm, 780/785 nm, 852 nm | up to 120 mW | < 2 MHz |
iBeam smart WS | 633 nm, 638 nm, 685 nm, 785 nm, 852 nm | up to 120 mW | < 25 MHz |
iBeam smart | 375 nm .. 850 nm | up to 450 mW | 0.5 nm |
*各中心波長における波長可変レンジ: 10nm (典型値)