TopWave 405

優れた対費用効果。ガスレーザーの置き換えに – リソグラフィー、ホログラフィーアプリケーション向けにハンズフリーオペレーションを提供します

  • 低コストでの運用可能
  • 1 Watt @ 405 nm   
  • 優れたビーム品質、  M² = 1.15(典型値)
  • コヒーレンス長 > 100 m

TopWave 405はホログラフィおよびリソグラフィの用途で従来一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr+ガスレーザー (406.7 nm 及び 413.1 nm) の置き換えに理想的なレーザーシステムです。The TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。 ビーム径と M² (typ. 1.15) は、既存のガスレーザのパラメータに合わせて設計されているため、光学系を大幅に変更することなく簡単に従来のシステムに統合することが可能です。 またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため干渉 lithography や holographyにおいて安定したパターン生成が可能になりました。

Highest Efficiency – low cost of ownership

ガスレーザーは数キロワットの消費電力とハンドリングが煩雑な水冷チラーを必要としますが、“オール半導体レーザー” TopWave 405 方式を採用した TopWave 405 は100W以下の低消費電力で水冷チラーも不要です。運用コストを大幅に低減し、オーナシップコストの改善に大きく寄与します。 さらに長寿命の半導体レーザーの採用でメンテナンス周期が長くなり、改修コストを劇的に低減できるメリットもあります。

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  • Specification

    波長 405 ± 0.5 nm
    発振線幅 < 1 MHz
    コヒーレンス長 > 100 m
    出力 1 W

    ビームウエスト 径 1.5 ± 0.2 mm
    ビームウエスト 位置 Front bezel ± 25% of Rayleigh range
    ビーム品質 TEM00
    M² typ. (最大) 1.15 (≤ 1.3)
    ビーム拡がり角 (全角) ≤ 0.6 mrad
    ビーム楕円率 0.9 - 1.1
    非点収差 レイリー長に対して± 25%
    ビーム位置安定性 * ≤ 5 µrad
    偏光特性 linear, 垂直, ± 3°, > 100:1
    出力安定性 (8時間以上) ≤ 1 %
    RMS ノイズ (10 Hz - 10 MHz) ≤ 0.6 %
    ウォームアップ時間
         コールドスタートから
        スタンバイ状態から
    < 2 h
    < 15 min
    Lifetime (min. / typ.) 5,000 h / 10,000 h
    ユーティリティ ＆ 環境条件
    レーザーヘッド
          外形寸法  (H x W x D)
        重量
         冷却方式
    127 x 295 x 500 mm3
    22 kg
    コンダンクション冷却 **
    接続ケーブル長 2 m
    電源コントローラ
        外形寸法 (H x W x D)
        重量
        冷却方式
    154 x 448 x 378 mm3
    9 kg
    コンベクション冷却
    動作温度 20 ～ 30 °C, ± 1 °Cに安定すること, 結露無きこと
    輸送時環境条件 -10 to +50 °C, 輸送時も結露なきこと
    電源仕様 AC 100-240 V, 50/60 Hz
    消費電力  < 100 W
    通信インターフェース Ethernet, USB

    * RMS over 8h @ 大気温度のドリフトが ± 1 Kの場合。

    ** 十分な熱容量をもったヒートシンクを使用した場合。オプションで冷却プレートおよびクローズド水冷チラーをご用意しています。
  • Applications
  • Downloads
  • Literature

    技術記事: Ulrich Eismann Direct and frequency-converted diode lasers provide all wavelengths for holography, Laser Focus World (2018), Japanese version

    アプリケーションノート: Resource-efficient generation of large-area micro and nanostructures, Photonics Views, February / March 2023

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